CARACTERIZAÇÃO DE FILMES CERÂMICOS DE SiC DEPOSITADOS NA LIGA Ti-6Al-4V PELA TÉCNICA HIGH POWER IMPULSE MAGNETRON SPUTTERING (HIPIMS)

Abstract

Apesar dos notáveis avanços no desenvolvimento da liga Ti-6Al-4V, ocorrem limitações quanto ao uso dessas ligas em temperaturas superiores a 600ºC. Neste contexto, muitas pesquisas vêm sendo realizadas com o objetivo de se aumentar o tempo de vida dessas ligas, incluindo tratamentos termoquímicos. Dentre estes tratamentoss, a nitretação a plasma é realizada tradicionalmente pelo método de deposição química em fase vapor assistida por plasma (PECVD - Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition). Um novo método de deposição por PECVD utilizando uma fonte pulsada de alta potência (HiPP-PECVD - High Power Pulsed PECVD) será utilizado para gerar um plasma com uma densidade significativamente maior do que o PECVD tradicional. Neste projeto será estudado o efeito da nitretação por plasma realizada por este novo método de HiPP-PECVD nas propriedades mecânicas em temperaturas elevadas da liga Ti-6Al-4V. Após a realização da nitretação da liga Ti-6Al-4V pelo método de HiPP-PECVD, a camada superficial formada será analisada com relação à microestrutura por microscopia (óptica e eletrônica de varredura) e por difratometria de raios X. O comportamento mecânico em tração em temperaturas elevadas e diferentes taxas de deformação e em fluência na modalidade de carga constante na liga Ti-6Al-4V com e sem nitretação será investigado. O material ensaiado terá sua microestrutura caracterizada por microscopia eletrônica de transmissão e de varredura (superfície de fratura). Uma análise por meio do software JMatPro será feita visando a determinação das fases presentes, das propriedades mecânicas em temperaturas elevadas e das curvas de fluência da liga Ti-6Al-4V com e sem nitretação.